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薄膜的化學制備工藝-陽極氧化法

   陽極氧化法是將某些金屬或合金(如鋁、祖、欽、鋇等),在相應的電解液中作陽極,用石墨或金屬本身作陰極,加上一定的直流電壓時,由于電化學反應會在這些金屬的表面上形成氧化物薄膜,這個過程稱為陽極級化,其制膜方法稱為陽極氧化法。它和其他的電解過程一樣,也遵循法拉第定律,即將一定的電量嚴格定量地轉化為金屬的氧化物。然而,在陽極氧化過程中,會有一定數最的氧化物又溶解在電解液中,所以金屬表面上的氧化膜的有效質量要比理論值偏低一些。也就是說,陽極氧化過程存在著金屬溶解和氧化膜形成兩個相反的過程,而成膜則是兩者的綜合結果。因此氧化膜的形成是一種典型的不均勻反應,在鍍膜中存在以下反應:

   利用以上同時存在的反應生成陽極氧化物膜。在膜生成的初期,同時存在膜生成反應和金屬溶解反應。溶解反應產生水合金屬離子,生成由氫氧化合物或氧化物組成的膠狀沉淀氧化物。氧化物覆蓋表面后,金屬活化溶解將停止,持續氧化反應是金屬離子和電子穿過絕緣性金屬氧化物在膜表面繼續形成氧化物。為了維持離子的移動而保證氧化物薄膜的生長,需要外加一定的電場。陽極氧化膜的成分及其結構與電解液的類型和濃度,以及工藝參數等多種因素有關。

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